日经新闻8日讯，去年日本专利申请件数同比下降4%，为32万件，位列中国、美国之后。而中国申请件数同比增26%，为82万件，是日本的2.5倍，中日两国差距逐渐拉大。

日本专利申请书在05年为42万件，居全球之首。但06年被美国超越，10年被中国超越，沦落第三。

专利申请件数是反映该国市场魅力的一面镜子。日本专利申请持续低迷的原因有，一是因人口减少和专利审查严格，国外企业感受不到在日本申请专利的好处。二是日本国内研究经费不足。

如果这种局面持续，将导致技术创新不足、经济增长缓慢和研究经费进一步被削减的恶性循环。

专利有效期为从申请之日起20年，如果申请时间长，那么专利使用权就会变短。现在日本专利申请期平均为2年5个月，而中国和韩国则为1年10个月，这导致大企业在日研究和申请专利意愿降低。

日本专利管理部门计划在2023年将专利申请期缩短至1年2个月，速度是现在的2倍，为世界最快。

（大阪经商室）